电弧增材制造高锰钢滑动磨损研究
时间:2024-05-22 09:14 来源:金属磨损与润滑 作者:admin 阅读:次
相关链接:https://doi.org/10.1016/j.wear.2024.205242
研究使用电弧增材制造(WAAM)在碳钢(Q235)表面包覆了两层涂层。根据合金元素Mn和Cr的含量,它们被称为高锰(HiMn)涂层和高锰中铬(HiMnMeCr)涂层。将碳钢在300◦C下预热30 min,以减少裂纹的发生。主要制造参数为:电流300 A、电压30 V、涂层速度10.7 m/min、保护气体流量(20 % CO2+80 % Ar),10 L/min。根据以往的试验,选择和优化了制造参数。制备的涂层分为两层,厚度为~4 mm。磨损试样的尺寸为20 mm×20 mm×4 mm。每次磨损试验的速度为50 mm/s,频率为5 Hz,轨道长度为5 mm,磨损试验时间为60 min。选取试验参数来模拟导向滑靴的厚度损失。磨损试验采用了三种加载力(50、100和120 N)。选择加载力模拟了严重的实际情况,研究了严重塑性变形情况下应变诱导马氏体相变和工作硬化效应。实验结果表明,Cr的加入使电弧增材制造HiMn涂层的微观结构从双相奥氏体+马氏体转变为单奥氏体。Cr的加入延长了磨损过程的磨合期,由于奥氏体严重的塑性变形,降低了电弧增材制造 HiMnMeCr涂层的耐磨性。在50和100 N的载荷下,HiMn涂层的主要磨损机制是一种复杂的磨料和粘合剂磨损模式。然而,在120 N的载荷下,HiMnMeCr涂层的主要磨损机制是在所有测试载荷下的磨料磨损。
主要图表
图1. 所制备的涂料的WAAM工艺示意图和微观结构特性
图2. 使用OM、SEM和EDS制备涂层的微观结构形态:(a) HiMn(OM)、(d) HiMnMeCr(OM)、(b) HiMn(SEM);(e) HiMnMeCr(SEM);(c) HiMn(EDS)和(f) HiMnMeCr(EDS)
图3. 制备好的涂层的磨损率。x轴上的数字提供了加载力的值
图4. 制备涂层磨损轨迹的深度分布:(a) HiMn-50 N;(b) HiMn-100 N;(c) HiMn-120 N;(d) HiMnMeCr-50 N;(e) HiMnMeCr-100 N;和(f) HiMnMeCr-120 N
图5. 制备的涂层在不同加载力下的摩擦系数:(a) HiMn涂层;(b) HiMnMeCr涂层
图6. 制备涂层沿磨损轨道磨损表面深度方向的硬度变化:(a) HiMn涂层;(b) HiMnMeCr涂层
图7. 制备涂层磨损轨迹下的截面金相图:(a)HiMn-50N(b)HiMn-100N(c)HiMn-120N(d)HiMnMeCr-50N(e)HiMnMeCr-100N和(f) HiMnMeCr-120 N
图8. 磨损轨迹扫描SEM图像:(a) HiMn-50 N;(b) HiMn-100 N;(c) HiMn-120 N;(d) HiMnMeCr-50 N;(e) HiMnMeCr-100 N;和(f) HiMnMeCr-120 N
图9. 磨损轨道表面的EDS。(a) HiMn-50 N;(b) HiMn-100 N;(c) HiMn-120 N;(d) HiMnMeCr-50 N;(e) HiMnMeCr-100 N;和(f) HiMnMeCr-120 N
图10. 涂层磨损机理示意图
结论
在这项研究中,两种类型的高锰钢制造使用电弧增材制造技术阐明铬的作用添加微观结构形态和抗滑动磨损通过使用二氧化锆作为对抗材料和腐蚀使用OM、SEM、EDS、硬度测试。新的发现如下:
HiMn涂层的微观结构由马氏体和奥氏体组成。然而,其中一种HiMnMeCr涂层包含奥氏体。
HiMn涂层的磨损率低于HiMnMeCr涂层。在测试的持续时间内,HiMn涂层的磨损过程包括磨合周期和准稳态周期。然而,HiMnMeCr涂层仅包含一个磨合期。两种制备涂层的磨损过程差异归因于严重的塑性变形引起的加工硬化效应。
HiMn涂层的主要磨损机制从磨料磨损和粘合剂磨损的复杂模式转变为单一粘合剂磨损。HiMnMeCr涂层仅显示出粘合剂磨损。
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